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彭总 先生
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发布时间:2022-01-04 07:07:46
洁净棚的温湿度控制非常重要,不合宜的温湿度会影响洁净效果。但是温湿度的控制主要还是根据工艺要求来确定的,工艺性高也就代表着洁净度越高。
湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间不宜超过25度。
洁净室的测试:打开盖或解除肩带罩让开口只有18英寸。 使用遮光罩的通风烟管、排放烟雾在这个开放。 这烟应该看到立即被吸入内部罩空间。不使用遮光罩如果烟被推,流或外面徘徊开幕。
1、过滤器检漏:对过滤器及其外框要进行检验,以保证悬浮污染物不会穿过:损坏了的过滤器、过滤器与其外框间的缝隙、过滤器装置的其他部位而***室内。
2、各区之间的气流控制:为证明各区之间气流运动方向正确,也就是从洁净区向洁净度差的区域流动,必须检测:各区间的压差正确、门口处或墙、地板等处的开口处气流运动方向正确,即从洁净区向洁净程度差的区域流动。
3、悬浮粒子浓度和微生物浓度:如果上述这些测试满足要求,则后对粒子浓度和微生物浓度(需要时)进行测量,以便验明其符合设计的技术条件。
4、室内气流控制:气流控制测试的类型要依气流模式——是紊流还是单向流而定。若气流为紊流,则必须验明室内没有气流运行不足的区域。若是单向流洁净室,则必须验明整个室内的风速和风向是符合设计要求的。
5、送风量与排风量:如果是紊流型,那么就要测量其送风量与排风量。若为单向流型,则要测量其风速。
6、隔离检漏:这项测试是为了证明悬浮污染物不穿过建筑材料***洁净车间。
1、对空气的温度,湿度要求比较高,设计者要根据工艺的要求,生产洁净度级别合理选用建筑材料,考虑耐火性能,从而达到洁净棚设计要求。
2 、大多采用于要求高洁净度、外表美观,无尘、无菌的电子、、血液制品等行业生产车间地面。环氧自流坪地面的使用寿命厚度1mm以上一般可使用6年以上,以上地坪地面垫层下应铺设防潮层,混凝土分仓线不宜通过洁净区。
3、地面应用平整,无缝隙,耐磨,耐腐蚀,不易集聚静电的,便于清理的整体地面。而且还要去设计者在设计中可以采用现浇水磨石地面,所用石子直径应在6-15mm之间。其格条必须采用铜条分隔,不得采用玻璃条。
4、要求墙面应光滑,平整,不起尘,耐腐蚀,色彩和谐,便于识别污染物,内墙涂料必须采用防霉防静电和消毒的材料涂刷,墙面与地面相交处宜做半径50毫米的圆弧,以减少灰尘积聚,和便于清洁。
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